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合理(lǐ)的(de)配方(fāng)和(hé)工藝是(shì)控制材料的(de)化(huà)學(xué)成(chéng)分(fēn)和(hé)微觀结構,獲取(qǔ)優良的(de)宏觀物(wù)理(lǐ)性(xìng)能(néng)的(de)關(guān)键。而(ér)ZnO压敏陶瓷實(shí)验(yàn)配方(fāng)的(de)設計(jì)是(shì)晶粒(lì)能(néng)否低(dī)压化(huà)的(de)關(guān)键技術(shù)之(zhī)一(yī),各(gè)種(zhǒng)元(yuán)素的(de)添加和(hé)量(liàng)的(de)控制直(zhí)接影響材料的(de)顯微结構和(hé)晶界特(tè)性(xìng),進(jìn)而(ér)決定(dìng)压敏性(xìng)能(néng)。ZnO本(běn)身(shēn)的(de)電(diàn)性(xìng)質(zhì)对(duì)本(běn)征缺陷,尤其(qí)是(shì)对(duì)氧空(kōng)位(wèi)和(hé)鋅填隙比較敏感(gǎn),摻雜在(zài)压敏特(tè)性(xìng)的(de)形成(chéng)过(guò)程中(zhōng),影響燒结时(shí)晶粒(lì)的(de)生(shēng)长(cháng)、液相在(zài)冷(lěng)卻时(shí)的(de)去(qù)潤湿(shī)作(zuò)用(yòng)以及(jí)陶瓷的(de)電(diàn)子缺陷态。到(dào)目前(qián)为(wèi)止,人(rén)们(men)对(duì)低(dī)压化(huà)及(jí)摻雜改性(xìng)方(fāng)面(miàn)己經(jīng)作(zuò)了(le)很多研究工作(zuò),得到(dào)了(le)許多有(yǒu)價值的(de)结果(guǒ),如(rú)Co、Mn
、Sb等可(kě)改善非(fēi)線(xiàn)性(xìng)指數,Bi、Pr、Ba、Sr、Pb、U等可(kě)使ZnO晶粒(lì)絕緣和(hé)提(tí)供所(suǒ)需元(yuán)素(O2、Co、Mn、Zn等)到(dào)晶界,Co、玻璃料、Ag、B、Ni、Cr等的(de)添加可(kě)改善穩定(dìng)性(xìng),而(ér)A1、Ga、F、Cr等可(kě)改善大(dà)電(diàn)流非(fēi)線(xiàn)性(xìng)指數(形成(chéng)ZnO晶粒(lì)中(zhōng)的(de)施主),Sb及(jí)Si可(kě)抑制晶粒(lì)生(shēng)长(cháng),Be、Ti、Sn則可(kě)促進(jìn)晶粒(lì)生(shēng)长(cháng)。

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非(fēi)線(xiàn)性(xìng)區(qū)域:
中(zhōng)電(diàn)场(chǎng)區(qū)为(wèi)非(fēi)線(xiàn)性(xìng)區(qū)域,也(yě)是(shì)压敏電(diàn)阻器應(yìng)用(yòng)中(zhōng)重(zhòng)要(yào)的(de)區(qū)域,導電(diàn)機(jī)理(lǐ)主要(yào)是(shì)隧道(dào)電(diàn)流及(jí)空(kōng)穴生(shēng)成(chéng)降低(dī)勢壘。如(rú)只(zhī)考慮隧道(dào)效應(yìng)J = J0exp(-λ/E),λ为(wèi)3π(2m)1/2φ3/2/2he,E为(wèi)耗盡层(céng)中(zhōng)的(de)電(diàn)场(chǎng)強(qiáng)度(dù),算出(chū)的(de)a值低(dī)于50。

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